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反應離子刻蝕(關(guān)于反應離子刻蝕的基本詳情介紹)


【資料圖】

音頻解說

1、RIE,全稱是Reactive Ion Etching,反應離子刻蝕,一種微電子干法腐蝕工藝。

2、是干蝕刻的一種,這種蝕刻的原理是,當在平板電極之間施加10~100MHZ的高頻電壓(RF,radio frequency)時會產(chǎn)生數(shù)百微米厚的離子層(ion sheath),在其中放入試樣,離子高速撞擊試樣而完成化學反應蝕刻,此即為RIE(Reactive Ion Etching)。

本文應離子刻蝕的基本詳情介紹就講解完畢,希望對大家有所幫助。

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